Физико-технологические основы формирования и деградации пористых диэлектриков на основе SiOCH для интеграции в систему металлизации современных интегральных схем

«Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)» ; Диссовет ФЭФМ.2.2.2.025, Московская обл.