Формирование окисных слоев кремния ионной имплантацией кислорода для создания межкомпонентной изоляции интегральных микросхем

Институт физики твердого тела и полупроводников АН БССР, Минск

16 стр.

Формирование окисных слоев кремния ионной имплантацией кислорода для создания межкомпонентной изоляции интегральных микросхем — Протасевич, Петр Васильевич — 1985 — Российская библиотека диссертаций