Исследование и разработка технологического процесса неразрушающего контроля резисторных слоев с целью анализа интегральных параметров их состояния, необходимых для автоматизации и моделирования этапов фотолитографического процесса

Москва

210 стр.

Исследование и разработка технологического процесса неразрушающего контроля резисторных слоев с целью анализа интегральных параметров их состояния, необходимых для автоматизации и моделирования этапов фотолитографического процесса — Шапиро, Александр Гиршевич — 1990 — Российская библиотека диссертаций