Применение диффузии и ионной имплантации для создания кремниевых планарных Р-П-Р транзисторов
Туловчиков, В. С., 1971, кандидатская диссертация
Горький
19 стр.
Применение диффузии и ионной имплантации для создания кремниевых планарных Р-П-Р транзисторов — Туловчиков, В. С. — 1971 — Российская библиотека диссертаций