Исследование физических основ построения рельефа в фоторезистивной маске с разработкой компактной литографической модели

ФГАОУ ВО «Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)» ; Диссовет ФЭФМ.2.2.2.004, Долгопрудный

114 стр.

Ключевые слова

фотолитография, фоторезистивная маска

Исследование физических основ построения рельефа в фоторезистивной маске с разработкой компактной литографической модели — Харченко, Екатерина Леонидовна — 2023 — Российская библиотека диссертаций