Обложка работы «Исследование методов формирования структур с критическими размерами до 10 нм электронно-лучевой литографией на основе HSQ резиста». Автор: Шишлянников, Антон Валерьевич. Степень: Канд. наук. Год: 2021

Исследование методов формирования структур с критическими размерами до 10 нм электронно-лучевой литографией на основе HSQ резиста

ФГБУН Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской академии наук, Москва

114 стр.

Ключевые слова

нанометровые топологические элементы полупроводниковых структур, электронно-лучевая литография

Исследование методов формирования структур с критическими размерами до 10 нм электронно-лучевой литографией на основе HSQ резиста — Шишлянников, Антон Валерьевич — 2021 — Российская библиотека диссертаций