Обложка работы «Структурные и электрофизические свойства аморфных HfxAl1-xOy и сегнетоэлектрических HfxLa1-xOy, HfxZr1-xOy тонкопленочных оксидов, формируемых методом атомно-слоевого осаждения». Автор: Черникова, Анна Георгиевна. Степень: Канд. наук. Год: 2016

Структурные и электрофизические свойства аморфных HfxAl1-xOy и сегнетоэлектрических HfxLa1-xOy, HfxZr1-xOy тонкопленочных оксидов, формируемых методом атомно-слоевого осаждения

Московский физико-технический институт (государственный университет), Долгопрудный

153 стр.

Ключевые слова

тонкопленочные оксиды, атомно-слоевое осаждение оксидов, сложные оксиды

Структурные и электрофизические свойства аморфных HfxAl1-xOy и сегнетоэлектрических HfxLa1-xOy, HfxZr1-xOy тонкопленочных оксидов, формируемых методом атомно-слоевого осаждения — Черникова, Анна Георгиевна — 2016 — Российская библиотека диссертаций