Технология осаждения слоев поликристаллического кремния для быстродействующих микросхем

Каунасский политехнический институт им. Антанаса Снечкуса, Каунас

24 стр.

Технология осаждения слоев поликристаллического кремния для быстродействующих микросхем — Сокол, Юрий Кириллович — 1986 — Российская библиотека диссертаций